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离子蚀刻机 20IBE-J用于陶瓷板Pt,Au,Cr薄膜刻蚀

时间:2021-10-28  来源:伯东企业(上海)有限公司真空事业部  浏览次数:73
 深圳某电子公司采用Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 对陶瓷板的 PtAuCr 薄膜刻蚀高端印制电路板生产为主

Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 技术参数

 

Φ4 inch X 12

基片尺寸

Φ4 inch X 12

Φ5 inch X 10

Φ6 inch X 8

均匀性

±5%

硅片刻蚀率

20 nm/min

样品台

直接冷却,水冷

离子源

Φ20cm 考夫曼离子源

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Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-J 的核心构件离子源采用的是伯东公司代理美国 考夫曼博士创立的 KRI考夫曼公司的射频离子源 RFICP220

伯东 KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数:

离子源型号

RFICP 220

Discharge

RFICP 射频

离子束流

>800 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

20 cm Φ

离子束

聚焦平行散射

流量

10-40 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

中和器

LFN 2000

 

推荐  Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J  理由:

1. 客户要求规模化生产,  Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 适合大规模量产使用

2. 刻蚀均匀性 ±5%, 满足客户要求

3. 工作台冷却方式直接水冷

4. 样品装载数: 18/批(2″)或4/批(4″)

 

若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :

上海伯东 : 罗先生                               台湾伯东 : 王小姐
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86                      M: +886-939-653-958
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

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